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一種釹含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功
- 分類：新聞資訊
- 作者：
- 來源：
- 發布時間：2020-07-14 15:31
- 訪問量：
【概要描述】由日本國家材料科學研究院Kazuhire Hono博士領銜的課題組合成了一種新型磁性化合物，其釹含量比目前流行的釹鐵硼低。 這種新型磁性化合物化學式為NdFe12N,釹含量17%，而釹鐵硼的釹含量為27%，但前者的內稟硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是，這種新型磁性化合物的居里溫度比釹鐵硼高200度。 在以往稀土磁體研究中曾出現過化學式為NdFe11TiN的磁性化合物，鈦雖然是非磁性的，但加入鈦才能使該化合物保持穩定，但正因為含鈦，該化合物的磁性不如釹鐵硼，因而沒有受到多大關注。由于該化合物不加鈦不穩定，以前的研究工作均未成功。而本研究在不加鈦的情況下成功制備出了這種化合物。 NdFe12Nx為ThMn12結構，合成步驟為：先在MgO(001)基質上沉積一層鎢，再在其上生長NdFe12薄膜,然后對NdFe12薄膜進行氮化。其內稟硬磁性能:μOMs約為1.66 T, μOHa為8T, Tc為550攝氏度，全部超釹鐵硼。 NdFe12薄膜是用濺射法制備的，其厚度可達350納米。 該課題組下一步的方向是確立制備大量磁粉及塊狀磁體的技術路線。
一種釹含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功
【概要描述】由日本國家材料科學研究院Kazuhire Hono博士領銜的課題組合成了一種新型磁性化合物，其釹含量比目前流行的釹鐵硼低。 這種新型磁性化合物化學式為NdFe12N,釹含量17%，而釹鐵硼的釹含量為27%，但前者的內稟硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是，這種新型磁性化合物的居里溫度比釹鐵硼高200度。 在以往稀土磁體研究中曾出現過化學式為NdFe11TiN的磁性化合物，鈦雖然是非磁性的，但加入鈦才能使該化合物保持穩定，但正因為含鈦，該化合物的磁性不如釹鐵硼，因而沒有受到多大關注。由于該化合物不加鈦不穩定，以前的研究工作均未成功。而本研究在不加鈦的情況下成功制備出了這種化合物。 NdFe12Nx為ThMn12結構，合成步驟為：先在MgO(001)基質上沉積一層鎢，再在其上生長NdFe12薄膜,然后對NdFe12薄膜進行氮化。其內稟硬磁性能:μOMs約為1.66 T, μOHa為8T, Tc為550攝氏度，全部超釹鐵硼。 NdFe12薄膜是用濺射法制備的，其厚度可達350納米。 該課題組下一步的方向是確立制備大量磁粉及塊狀磁體的技術路線。
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- 發布時間：2020-07-14 15:31
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由日本國家材料科學研究院Kazuhire Hono博士領銜的課題組合成了一種新型磁性化合物，其釹含量比目前流行的釹鐵硼低。 這種新型磁性化合物化學式為NdFe12N,釹含量17%，而釹鐵硼的釹含量為27%，但前者的內稟硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是，這種新型磁性化合物的居里溫度比釹鐵硼高200度。 在以往稀土磁體研究中曾出現過化學式為NdFe11TiN的磁性化合物，鈦雖然是非磁性的，但加入鈦才能使該化合物保持穩定，但正因為含鈦，該化合物的磁性不如釹鐵硼，因而沒有受到多大關注。由于該化合物不加鈦不穩定，以前的研究工作均未成功。而本研究在不加鈦的情況下成功制備出了這種化合物。 NdFe12Nx為ThMn12結構，合成步驟為：先在MgO(001)基質上沉積一層鎢，再在其上生長NdFe12薄膜,然后對NdFe12薄膜進行氮化。其內稟硬磁性能:μOMs約為1.66 T, μOHa為8T, Tc為550攝氏度，全部超釹鐵硼。 NdFe12薄膜是用濺射法制備的，其厚度可達350納米。 該課題組下一步的方向是確立制備大量磁粉及塊狀磁體的技術路線。